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设备名称 Description |
型号 Model |
主要技术内容 Specification |
主要用途 Usage |
其它 Other |
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极高真空多靶磁控 溅射及电子束蒸发 复合镀膜机
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CK&ZF-500 |
主抽泵：单级分子泵 极限真空：6x10-9Pa Ultimate cacuuum:6x10-9Pa 溅射室：φ500 x450 Sputtering chamber:φ500 x450 靶：4xφ76 Target：4xφ76 样品：平面φ50；柱状：φ5 x5 x9只 样品加热：200℃ Sample heated temperature：200℃ 样片运动方式：公转、自转 Sample transmission:Revolted and rotated 配气系统：4路流量控制 Gas flow system:4-MFC, 进口4坩埚电子枪，功率6KW 计算机自动控制 |
用于制备各种单层或多层介 质膜、金属、半导体薄膜及工 艺研究。 Used for the production of metal films,medium films,semiconduct or films and metal films Suitable for scientific research. |
磁控溅射同时离子束辅助 |
