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极高真空多靶磁控溅射及电子束蒸发复合镀膜

分类:磁控溅射设备 浏览次数:1791

设备名称

Description

型号

Model

主要技术内容

Specification

主要用途

Usage

其它

Other

极高真空多靶磁控

溅射及电子束蒸发

复合镀膜机

 

 

CK&ZF-500

主抽泵:单级分子泵

极限真空:6x10-9Pa

Ultimate cacuuum:6x10-9Pa

溅射室:φ500 x450

Sputtering chamber:φ500 x450

靶:4xφ76

Target:4xφ76

样品:平面φ50;柱状:φ5 x5 x9只

样品加热:200℃

Sample heated temperature:200℃

样片运动方式:公转、自转

Sample transmission:Revolted and rotated

配气系统:4路流量控制

Gas flow  system:4-MFC,

进口4坩埚电子枪,功率6KW

计算机自动控制

用于制备各种单层或多层介

质膜、金属、半导体薄膜及工

艺研究。

Used for the production of metal

 films,medium films,semiconduct

 or films and metal films

Suitable for scientific research.

磁控溅射同时离子束辅助

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