CVD设备 CORE PRODUCT

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三室PECVD沉积设备3S-300
所属系列:CVD设备
所属品牌:
商品价格:¥
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保修时长:
商品详情

设备名称

Description

型号

Model

主要技术内容

Specification

主要用途

Usage

其它

Other

三室PECVD

沉积设备

 

PCVD Plasma

Enhanced

Chemical

Vapor

Deposition

Equipment

3S-300

极限真空:5x10-5Pa

Ultimate cacuuum:5x10-5Pa

 

PECVD沉积室:φ300

OECVD chamber:φ300

 

样品:φ50

Sample size:φ50

 

样品加热:1000℃

temperature:1000℃

 

射频功率:RF 500W

Sputtering power:RF 500W

 

配气系统:5路流量控制

Gas flow  system:5-MFC,

Flow control

 

非晶硅薄膜、太阳

电池制备工艺研究。

 

Amorphous films.

可选计算机控制。自动生成沉积

过程温度、射频电流、电压、

气体流量、真空度等随时间

变化的曲线。

 

Can

Options:Computer

Process control

System.