CVD设备 CORE PRODUCT

以超高真空技术为基础、以生产真空设备及各种电源为产品方向的科研生产型厂家.十几年来,我们同全国各高等院校及科研院所密切合作,共同开发研制出了一批高技术装备。我们重质量守信用、追求进步、勇于创新。欢迎各位朋友前来合作...



CVD沉积设备D700
所属系列:CVD设备
所属品牌:
商品价格:¥
发货时间:
保修时长:
商品详情

设备名称

Description

型号

Model

主要技术内容

Specification

主要用途

Usage

其它

Other

CVD沉积设备

 

PCVD Plasma

Enhanced

Chemical

Vapor

Deposition

Equipment

D700

极限真空:2x10-4Pa

Ultimate cacuuum:2x10-4Pa

 

PECVD沉积室:900x900x400

OECVD chamber:900x900x400

 

样品:650 x650

Sample size: 650 x650

 

样品加热:300℃

temperature:300℃

 

射频功率:RF 2000W

Sputtering power:RF 2000W

 

配气系统:5路流量控制

Gas flow  system:5-MFC,

Flow control

 

太阳能电池薄膜制备。

 

 

可选计算机控制。可实现多

层膜计算机控制自动沉积,

自动生成沉积过程温度、

射频电流、电压、气体流

量、真空度等随时间变化

的曲线。

 

Can

Options:Computer

Process control

System.