CVD设备 CORE PRODUCT

以超高真空技术为基础、以生产真空设备及各种电源为产品方向的科研生产型厂家.十几年来,我们同全国各高等院校及科研院所密切合作,共同开发研制出了一批高技术装备。我们重质量守信用、追求进步、勇于创新。欢迎各位朋友前来合作...



CVD沉积设备1S-700
所属系列:CVD设备
所属品牌:
商品价格:¥
发货时间:
保修时长:
商品详情

设备名称

Description

型号

Model

主要技术内容

Specification

主要用途

Usage

其它

Other

CVD沉积设备

 

PCVD Plasma

Enhanced

Chemical

Vapor

Deposition

Equipment

1S-700

 

沉积室:700x700x500

Chamber: 700x700x500

 

样品台:φ350

Sample set:φ350

 

极限真空:2x10-4Pa

Ultimate cacuuum:2x10-4Pa

 

 

样品转速:1~10转/小时

Turning rate:0.02~0.2rpm

 

样品加热:300℃

Temperature:300℃

射频功率:RF 2000W

Sputtering power:RF 2000W

 

配气系统:5路流量控制

Gas flow  system:5-MFC,

Flow control

 

用于制备类金刚石保护膜。

 

 

可选计算机控制。可实现多

层膜计算机控制自动沉积,

自动生成沉积过程温度、射

频电流、电压、气体流量、

真空度等随时间变化的曲线。

 

Can

Options:Computer

Process control

System.

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